當前位置：系統(tǒng)之家 > IT快訊 > 詳細頁面

2020年投產(chǎn)！三星宣布完成5nm EUV工藝

編輯：jiayuan 2019-04-16 13:55:19 來源于：快科技

　　4月16日消息和頻頻在制程工藝上擠“牙膏”的Intel不同，其競爭對手AMD、三星、臺積電一直在不斷更新芯片制程工藝！而據(jù)最新消息顯示，繼臺積電后，三星方面也成功完成了5nm EUV工藝的研發(fā)，且有望在2020年正式投產(chǎn)。

　　據(jù)悉，三星在今天早些時候公開宣布，已完成5nm EUV工藝開發(fā)，且給客戶送去了相應的樣品。

　　按照三星官方的說法，由于加入了EUV（極紫外線光刻）技術(shù)，自家的芯片產(chǎn)品在更先進工藝制程加持下，可以擁有更好的功耗和性能，且相應的生產(chǎn)線正在建設，預計2019年下半年完成，2020年便可開始投入使用。

　　那么新工藝下的表現(xiàn)是怎么樣的呢？三星方面表示，5nm FinFET工藝技術(shù)可以讓芯片功耗降低了20%（相較于7nm工藝），性能提高了10%，從而能夠擁有更多創(chuàng)新的標準單元架構(gòu)！同時，三星方面透露，5nm的另一個主要優(yōu)點是，讓7nm客戶過渡到5nm降低的遷移成本，縮短相應產(chǎn)品開發(fā)的時間。