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可加工22nm芯片！國(guó)產(chǎn)“超分辨光刻裝備”通過(guò)驗(yàn)收

編輯：jiayuan 2018-11-30 08:07:46 來(lái)源于：IT之家

　　11月30日消息相信有了解的朋友都清楚，我國(guó)在光刻機(jī)等領(lǐng)域長(zhǎng)期處于落后狀態(tài)。而據(jù)最新消息顯示，國(guó)家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”已于近日通過(guò)驗(yàn)收！那么，這對(duì)我國(guó)在相關(guān)領(lǐng)域的發(fā)展有何助力呢？讓我們來(lái)了解一下。

　　據(jù)悉，該光刻機(jī)由中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達(dá)到22納米，結(jié)合雙重曝光技術(shù)后，未來(lái)還可用于制造10納米級(jí)別的芯片。

　　按照官方的說(shuō)法，該裝備也為超材料/超表面、第三代光學(xué)器件、廣義芯片等領(lǐng)域提供了制造工具。此外，還有分析人士指出，此次通過(guò)驗(yàn)收的“表面等離子體超分辨光刻裝備”擁有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，打破了國(guó)外在高端光刻裝備領(lǐng)域的壟斷，并為納米光學(xué)加工提供了全新的解決途徑！那么，你怎么看呢？