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已研發(fā)3nm工藝?傳臺(tái)積電2019年擬試產(chǎn)5nm工藝

編輯:jiayuan 2017-02-24 16:39:30 來源于:IT之家

  此前有消息稱,Intel在前不久的投資者會(huì)議上宣稱自家的半導(dǎo)體工藝依然領(lǐng)先對(duì)手3年,但由于遲遲未推出10nm工藝甚至被網(wǎng)友嘲諷為靠PPT來制敵!而據(jù)外媒報(bào)道,Intel的主要競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手TSMC(臺(tái)積電)日前宣稱其未來的工藝發(fā)展速度已經(jīng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過了Intel。

  報(bào)道稱,TSMC計(jì)劃在2018年量產(chǎn)7nm工藝,2019年則會(huì)試產(chǎn)5nm工藝,而現(xiàn)在他們已經(jīng)開始著手研發(fā)更先進(jìn)的3nm工藝了。

已研發(fā)3nm工藝?傳臺(tái)積電2019年擬試產(chǎn)5nm工藝

  23日下午TSMC公司舉行了供應(yīng)鏈管理論壇,總經(jīng)理、聯(lián)席CEO劉德音在會(huì)議上做了主題演講,公布了TSMC公司的一些新動(dòng)向,比如2017年資本開支將達(dá)到100億美元,研發(fā)費(fèi)用也會(huì)增加15%。

  對(duì)于工藝進(jìn)展,劉德音表示10nm工藝去年底就已經(jīng)量產(chǎn),現(xiàn)在有超過3000名工程師正在為第一季度的出貨做準(zhǔn)備,今年下半年出貨量還會(huì)快速擴(kuò)大。

  10nm之后半導(dǎo)體制造工藝也會(huì)越來越困境,其中7nm公認(rèn)為是高性能節(jié)點(diǎn),而TSMC此前也對(duì)7nm進(jìn)展感到滿意,自信會(huì)領(lǐng)先對(duì)手。這次會(huì)議上,劉德音提到TSMC的7nm工藝會(huì)在今年第一季度試產(chǎn),2018年正式量產(chǎn)。

  7nm之后就是5nm工藝,TSMC表示他們的5nm工藝今年已經(jīng)進(jìn)入技術(shù)研發(fā)階段,2019年上半年準(zhǔn)備試產(chǎn),不過具體量產(chǎn)時(shí)間就沒有公布。

  再往后還有3nm工藝,這個(gè)工藝就更加遙遠(yuǎn)了,Intel之前的路線圖中最多也就前瞻到5nm工藝,而TSMC表現(xiàn)已經(jīng)著手研發(fā)3nm工藝了,投入了數(shù)百名工程師資源進(jìn)行早期研發(fā),TSMC自己也沒公開3nm工藝什么時(shí)候試產(chǎn)、量產(chǎn)。

  不過參考TSMC往年的黑歷史,上述制程工藝的量產(chǎn)時(shí)間還有待考證。盡管TSMC并不是第一家準(zhǔn)備在2018年就量產(chǎn)7nm工藝的公司,不過想要實(shí)現(xiàn)似乎還頗有難度!畢竟財(cái)大氣粗如Intel這般也只計(jì)劃在2020甚至2021年量產(chǎn)7nm工藝。

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